某光电器件鑫霖环保芯片研发厂在晶圆加工清理期间中，在使用硅烷去硅本质诞生，废气洗涤剂塔诞生高质量浓度含硅废水清理工艺清理。废水清理工艺清理拥有pH起伏较大大（2-11）、硅含水量高的的特点，传统型清理技术易导致硅垢堵住了相关问题。 废水处理方法组成及因素 废水处理工艺最主要的有效成分为： 溶于性硅酸盐 ：SiO₂盐浓度达1000-1500mg/L 盐酸/氢氧化的钠 ：洗條塔碱酸洗條液存留 粉末硅 ：納米级SiO₂胶体溶液 痕量砷 ：主料不溶物带进去 工作加工制作工艺 程序流程 科技创新主要采用"二级中合+膜进行过滤+挥发成果"流程： 特一级结合 ：用CaO调试pH至4-5，转为硅酸钙沉定，硅消除率60%。 一级结合 ：加Na₂CO₃将pH改善至9，进1步乳浊液剩于硅，串并联用镁剂除砷。 反渗透装置系統 ：0.02μm陶瓷制品膜脱水纳米级级硅粒状，通量维持在80LMH。 MVR化掉器 ：浓缩咖啡高盐废渣，晶体出Na₂SO₄副食品，水造纸废水处理率超90%。 后面治疗效果 总硅从1500mg/L调至5mg/L以下的 砷成分从0.8mg/L降落到0.01mg/L 机系统无积垢程序运行多于2年 次年环保再生资源回收盐酸钠多晶体约800吨